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HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，IO 820，EP 822，3 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 152 113
HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，1.5 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 252 140
HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，10 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 352 140
HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，3 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
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HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，1.5 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 252 110
HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，10 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 352 110
HiQuad Neo
HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，3 m
HiQuad® Neo 质谱仪系统, 测量速度快、动态范围广、非常高的灵敏度和出色的长期稳定性, 采用偏置离子源，背景低；采用场轴技术，检测限极低, Pfeiffer MassSpec 软件，可实现简单直观的操作和可视化, 通过集成矩阵计算确定气体浓度
PT Q24 152 110
HiScroll 12
HiScroll 12，涡旋泵，含压力传感器和自动 GB
无碳氢化合物：全干式无油涡旋真空泵, 低噪音级别，振动小、设计紧凑，也适用于实验室使用, 由于安装了止回阀、密封泵送系统，因此运行安全, 由于质量最高、维护时间较短、维护间隔较长，运营成本较低, 所需电源：泵速稳定，周期短, 可持续：比传动系统的效率提高 15 %，降低发热、冷却要求低, 兼容工业 4.0：通过 RS-485 配对其他智能产品（如涡轮泵）操作, 简单的后勤保障：我们HiScroll泵适用于全球所有电压, 适用于完全集成系统的自动气镇
PD S20 012 B
HiScroll 12
HiScroll 12，涡旋泵，含压自动 GB
无碳氢化合物：全干式无油涡旋真空泵, 低噪音级别，振动小、设计紧凑，也适用于实验室使用, 由于安装了止回阀、密封泵送系统，因此运行安全, 由于质量最高、维护时间较短、维护间隔较长，运营成本较低, 所需电源：泵速稳定，周期短, 可持续：比传动系统的效率提高 15 %，降低发热、冷却要求低, 兼容工业 4.0：通过 RS-485 配对其他智能产品（如涡轮泵）操作, 简单的后勤保障：我们HiScroll泵适用于全球所有电压, 适用于完全集成系统的自动气镇
PD S20 002 B

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HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，IO 820，EP 822，3 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，1.5 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，10 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，3 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，1.5 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，10 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，3 m

HiScroll 12，涡旋泵，含压力传感器和自动 GB

HiScroll 12，涡旋泵，含压自动 GB

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HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，IO 820，EP 822，3 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，1.5 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，10 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，2 x EP 822，3 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，1.5 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，10 m

HiQuad® Neo，配备 QMA 430，1 - 300 u，气密离子源，带导向磁铁，铱丝，覆有氧化钇涂层，以太网，EP 822，3 m

HiScroll 12，涡旋泵，含压力传感器和自动 GB

HiScroll 12，涡旋泵，含压自动 GB

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